艾拓斯新材料科技（苏州）有限公司

Aetoes New Material Technology (Suzhou) Co., Ltd.

光刻胶作为微细图形加工的关键材料，其种类繁多，每种类型都有其特定的应用场景和性能特点。以下是对光刻胶种类及其特点的进一步详细归纳：一、按化学组成和用途分类网格极细线光刻胶特点：高精度、高分辨率，厚度通常在0.5至2微米之间。应用：主要用于制作微电子学器件的导线和其他细线路。垂直结构光刻胶特点：具有更好的纵向分辨率，能够形成垂直经过的结构。应用：在制造三维结构时非常有用，如微机械系统（MEMS...

光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射后，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。它主要由感光树脂、增感剂和溶剂等三种主要成分组成，是一种对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，光刻胶用作抗腐蚀涂层材料，通过特定的曝光和显影过程，在半导体材料表面形成所需的图像。光刻胶的种类繁多，根据不同的分类标准，可以将其划分为多种类型。以下是一些主要的分类方式及对应的种类：...